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英國(guó)Ossila浸漬提拉鍍膜機(jī)性能，內(nèi)置軟件，操作簡(jiǎn)單，價(jià)格經(jīng)濟(jì)，為科研領(lǐng)域工作者提供一款理想的適用于液相鍍膜制備而設(shè)計(jì)的精密儀器。目前在化學(xué)、材料科學(xué)的研究中，被廣泛應(yīng)用于溶膠-凝膠（sol-gel）法薄膜材料制備。如硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面薄片材料鍍膜工藝，可以精準(zhǔn)控制膜片提出速度，進(jìn)而控制涂層厚度，保證良好重復(fù)性。提供2年的質(zhì)保，為使用者提供更高的保障。

英國(guó)Ossila小型狹縫涂布儀結(jié)構(gòu)緊湊，價(jià)格實(shí)惠，使用簡(jiǎn)單，準(zhǔn)確度高。 對(duì)于那些希望在小型實(shí)驗(yàn)室中擴(kuò)大實(shí)驗(yàn)工藝的用戶來說，它是理想之選。與卷對(duì)卷和片對(duì)片沉積工藝相兼容，狹縫涂布是用于可擴(kuò)展沉積薄膜的技術(shù)之一。其廣泛的加工窗口確保穩(wěn)定、無(wú)缺陷的沉積，適用于各種粘度的溶液。薄膜均勻度高，準(zhǔn)確且可重復(fù)，厚度可通過改變流速和基材速度來控制。

英國(guó)Ossila公司勻膠旋涂?jī)x，操作簡(jiǎn)單，方便實(shí)用，旋涂均勻，結(jié)構(gòu)小巧緊湊，為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案，其采用創(chuàng)新設(shè)計(jì)的非真空卡盤式旋涂吸盤，無(wú)需真空泵或充氮?dú)?，就能達(dá)到很好的旋涂效果。勻膠旋涂?jī)x可對(duì)大小不同規(guī)格的基材都可進(jìn)行旋涂，尤其是對(duì)超薄樣品，即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時(shí)同樣能達(dá)到旋涂效果。不會(huì)出現(xiàn)真空吸盤旋涂較薄的基材襯底翹曲現(xiàn)象，影響涂層的均勻性。勻膠旋涂?jī)x廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、制版、新能源、生物材料、光學(xué)及表面涂覆等工藝。

英國(guó)Ossila SpinProcessor，操作簡(jiǎn)單，方便實(shí)用，旋涂均勻，結(jié)構(gòu)小巧緊湊，為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案，其采用創(chuàng)新設(shè)計(jì)的非真空卡盤式旋涂吸盤，無(wú)需真空泵或充氮?dú)?，就能達(dá)到很好的旋涂效果?？蓪?duì)大小不同規(guī)格的基材都可進(jìn)行旋涂，尤其是對(duì)超薄樣品，即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時(shí)同樣能達(dá)到完美的旋涂效果。不會(huì)出現(xiàn)真空吸盤旋涂較薄的基材襯

英國(guó)Ossila-Spin Coater操作簡(jiǎn)單，方便實(shí)用，旋涂均勻，結(jié)構(gòu)小巧緊湊，為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案，其采用創(chuàng)新設(shè)計(jì)的非真空卡盤式旋涂吸盤，無(wú)需真空泵或充氮?dú)?，就能達(dá)到很好的旋涂效果。可對(duì)大小不同規(guī)格的基材都可進(jìn)行旋涂，尤其是對(duì)超薄樣品，即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時(shí)同樣能達(dá)到較好的旋涂效果。不會(huì)出現(xiàn)真空吸盤旋涂較薄的基材襯底翹曲現(xiàn)象，影響涂層的均勻性。

UV Ozone Cleaner是一種簡(jiǎn)單，經(jīng)濟(jì)，快速的材料表面清洗設(shè)備，只需把樣品放置到樣品盤上，關(guān)上艙門，設(shè)置時(shí)間，并按運(yùn)行，就可以了，能快速去除大多數(shù)無(wú)機(jī)基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）上的有機(jī)污染物。特別是當(dāng)基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時(shí)，紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面，只需要在傳統(tǒng)清洗后，再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得！

Novascan-UVOzoneCleaner,PSDP-UVT系列紫外臭氧清洗機(jī)增加了一個(gè)可控溫的加熱樣品臺(tái)，通過PID數(shù)字控制器精準(zhǔn)反控加熱樣品臺(tái)溫度，控溫范圍可達(dá)150℃ （200℃可選配）。將PSDP-UV系列的清洗能力提升到了新的水平，能大程度的分解有機(jī)分子物質(zhì)。